DictionaryForumContacts

   Russian
Terms for subject Microelectronics containing МОП технология | all forms | in specified order only
RussianGerman
Би-МОП-технологияBIMOS-Technik
Би-МОП-технологияMOSBi
Би-МОП-технологияBIMOS
двухдиффузионная самосовмещённая МОП-технологияDSA-MOS-Technik
двухдиффузионная самосовмещённая МОП-технологияDiffusion Self-Aligned MOS
двухдиффузионная самосовмещённая МОП-технологияDouble-Diffusion Self-Aligned MOS
двухдиффузионная самосовмещённая МОП-технологияDSA MOS
комбинированная технология ИС на биполярных и МОП-транзисторахCache-Technik
V-МОП-технологияVertical MOS
V-МОП-технологияVMOS
V-МОП-технологияVMOS-Technik
V-МОП-технологияVMOS-Technologie
V-МОП-технологияV-groove MOS
n-МОП-технологияn-MOS-Technik NMOS-Technik
V-МОП-технологияV-Graben-MOS-Technologie
МОП-технология с двойной диффузиейMOS-Technologie mit Doppeldiffusion
МОП-технология с двойной диффузиейD/MOS-Technologie
р-МОП-технологияp-MOS-Technik PMOS-Technik
технология получения вертикальных V-МОП-структурVertikal-MOS-Technik
технология получения вертикальных V-МОП-структурVertikal-MOS
технология получения вертикальных V-МОП-структурVertikal-MOS-Technologie
технология изготовления вертикальных МОП-транзисторовVertikal-MOS-Technologie
технология изготовления вертикальных МОП-транзисторовVertikal-MOS-Technik
технология высоковольтных МОП-транзисторовHochvolt-MOS-Technik
технология высоковольтных р-канальных МОП-транзисторовPMOS-Hochvolttechnik
технология высококачественных МОП ИСHochleistungs-MOS
технология высококачественных МОП ИСHigh-Performance MOS
технология высококачественных МОП ИСHochleistungs-MOS-Technik
технология высококачественных МОП ИСHMOS-Technik
технология высококачественных МОП ИСHMOS-Technologie
технология высококачественных МОП ИСHMOS
технология изготовления двухдиффузионных МОП-транзисторовDMOS-Verfahren
технология изготовления двухдиффузионных МОП-транзисторовDMOS-Technik
технология изготовления двухдиффузионных МОП-транзисторовD-MOS
технология изготовления МОП ЗУ с плавающим затвором и тонким слоем туннельного оксидаFlotox
технология изготовления МОП ЗУ с плавающим затвором и тонким слоем туннельного оксидаFloating-Gate Tunnel Oxide
технология изготовления МОП ИС методом ионной имплантацииIon-Implanted MOS
технология изготовления МОП ИС методом ионной имплантацииIIMOS
технология изготовления МОП ИС с применением метода двойной диффузииDoppeldiffusions-MOS-Technologie
технология ИС на биполярных и МОП-транзисторахMOSBi
технология изготовления ИС на биполярных и МОП-транзисторахBIMOS-Technik
технология изготовления ИС на биполярных и МОП-транзисторахBIMOS
комбинированная технология ИС на биполярных и МОП-транзисторах с поликремниевыми затворамиSIGBIP
комбинированная технология ИС на биполярных транзисторах и МОП-транзисторах с поликремниевыми затворамиSilicon Gate MOS Bipolar Technology
технология ИС на лавинно-инжекционных МОП-транзисторах с многоуровневым затворомSIMOS
технология ИС на лавинно-инжекционных МОП-транзисторах с многоуровневым затворомStacked-gate Injection MOS
технология ИС на лавинно-инжекционных МОП-транзисторах с составнымStacked-gate Injection MOS
технология ИС на лавинно-инжекционных МОП-транзисторах с составным затворомSIMOS
технология ИС на лавинно-инжекционных МОП-транзисторах с составным затворомStacked-gate Injection MOS
технология p-канальных МОП ИСPMOS-Technik
технология p-канальных МОП ИСp-MOS-Technik
технология n-канальных МОП ИСn-MOS-Technik
технология n-канальных МОП ИСNMOS-Technik
технология p-канальных МОП ИС с алюминиевыми затворамиp-Alg-MOS
технология n-канальных МОП ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиn-Kanal-Silicongate-Technologie
технология n-канальных МОП ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиn-Kanal-Silizium-Gate-Technologie
технология n-канальных МОП ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиn-Kanal-Si-Gate-Technik
технология n-канальных МОП-приборовn-MOS-Technik NMOS-Technik
технология p-канальных МОП-приборовp-Kanal-Technologie
технология n-канальных МОП-приборовn-Kanal-MOS-Technologie
технология n-канальных МОП-приборовn-Kanal-MOS-Technik
технология p-канальных МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-Kanal-Silicongate-Technologie
технология p-канальных МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-Kanal-Si-Gate-Technik
технология n-канальных МОП-транзисторовn-Kanal-MOS-Technologie
технология p-канальных МОП-транзисторовp-Kanal-Technologie
технология n-канальных МОП-транзисторовn-Kanal-MOS-Technik
технология кремниевых МОП-транзисторовSilizium-MOS Technik
технология лавинно-инжекционных МОП-структур с многоуровневыми затворамиStacked-Gate Avalanche Injection MOS
технология получения лавинно-инжекционных МОП-структур с многоуровневыми затворамиSAMOS
технология масштабированных МОП ИС с самосовмещёнными затворами и каналами субмикронной длиныSmall MOS
технология масштабированных МОП ИС с самосовмещёнными затворами и каналами субмикронной длиныScaled-down MOS
технология МОП БИС с высокоомными стоками и истоками, сформированными двойной ионной имплантациейDouble-Implanted Lightly-Doped Drain/source process
технология МОП БИС с каналом р-типаp-Kanal-MOS-LSI-Technik
технология МОП БИС с плавающим затвором и двумя инжекторамиDual Injection Floating Gate MOS
технология МОП БИС с плавающим затвором и двумя инжекторамиDIFMOS
технология МОП ИСBipolar-enhanced MOS
технология МОП ИСBeMOS
технология МОП ИС с инжекционным плавающим затворомGIMOS
технология МОП ИС с инжекционным плавающим затворомGIMOS-Technik
технология МОП ИС с молибденовыми затворамиMolybdäntortechnik
технология МОП ИС с молибденовыми самосовмещёнными затворамиMolybdan-Gate-SAG
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокE/D-Technik
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокED-MOS
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокED-Technik
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокEnhancement-Depletion-Technik
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокED-MOS-Technik
технология МОП ИС с обогащением активных транзисторов и обеднением нагрузокDepletion-Load-Technik
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиVMOS-Technik
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиVMOS-Technologie
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиV-groove MOS
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиVertical MOS
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиVMIS-Technik
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиVMOS
технология МОП ИС с V-образными изолирующими канавкамиV-Graben-MOS-Technologie
технология МОП ИС с однослойным поликремниевым затворомSingle-Poly-Si-Gate-Technik
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSilicon-Gate-Technik
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSilicon Gate Technology
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSiliziumgatetechnologie
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSGT-MOS
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSi-Gate-Technik
технология МОП ИС с поликремниевыми затворамиSGT
технология МОП ИС с применением метода двойной диффузииDMOS-Technik
технология МОП ИС с применением метода двойной диффузииDMOS-Verfahren
технология МОП ИС с применением метода двойной диффузииD-MOS
технология изготовления МОП ИС с самосовмещёнными затворами и толстым оксидным слоемSATO-Technik
технология МОП ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиPoly-Si-Gate-SAG
технология МОП ИС с толстым слоем оксидной изоляцииLOCOS-Verfahren
технология МОП ИС с толстым слоем оксидной изоляцииLocal Oxydation of Silicon
технология МОП ИС с толстым слоем оксидной изоляцииLOCOS
технология МОП ИС с удвоенной плотностью упаковкиHigh-performance Double-density MOS
технология МОП ИС с удвоенной плотностью упаковкиHDMOS
технология МОП ИС со скрытым оксидомBOMOS-Technik
технология МОП ИС со скрытым оксидомBOMOS
технология МОП ИС со скрытым слоем изолирующего оксидаBOMOS-Technik
технология МОП ИС со скрытым слоем изолирующего оксидаBuried Oxide MOS
технология МОП ИС со скрытым слоем изолирующего оксидаBOMOS
технология МОП ИС, усиленных биполярными элементамиBipolar-enhanced MOS
технология изготовления МОП СБИСMOS-VLSI-Technik
технология МОП-структур с кремниевым затворомSilicon Gate Oxide Semiconductor
технология МОП-структур с кремниевым затворомSGOS
технология МОП-структур с самосовмещёнными затворамиSRG-Technik
технология получения МОП-структур с самосовмещёнными затворамиSAMOS
технология МОП-структур с самосовмещёнными затворамиSelf-Aligned Gate MOS
технология МОП-структур с самосовмещёнными затворамиSAGMOS
технология МОП-схем с использованием транзисторов с индуцированным каналом в качестве активных элементов и транзисторов со встроенным каналом в качестве нагрузокDepletion-Load-Technik
технология МОП-транзисторных ИС с металлическим затворомMetalltortechnik
технология МОП-транзисторных ИС с металлическим затворомMetall-Tor-Technologie
технология МОП-транзисторных ИС с плавающим затворомFloating-Gate-Technik
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиNMOS-Siliziumgate-Technik
технология МОП-транзисторных ИС с поликремниевыми затворамиSiliziumtortechnik
технология p-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиpMOS-Siliziumgate-Technik pSGT
технология МОП-транзисторных ИС с поликремниевыми затворамиSiliziumtortechnologie
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиn-SG-MOS
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиnMOS-SGT
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиnSGT
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиnMOS-Silizumgate-Technik
технология n-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиnMOS-Siliziumgate-Technik nSGT
технология p-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-SG-MOS
технология p-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиpMOS-SGT
технология изготовления МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными затворамиselbstjustierendes Verfahren
технология МОП-транзисторов сselbstjustierende Siliziumtortechnik
технология изготовления МОП-транзисторов с коротким каналомKurzkanaltechnik
технология изготовления МОП-транзисторов с металлическим затворомMetall-Gate-Technik
технология изготовления МОП-транзисторов с металлическим затворомMGT
технология МОП-транзисторов с плавающим затворомFloating-Gate-Technik
технология МОП-транзисторов с поликремниевыми затворамиSiliumtortechnologie
технология МОП-транзисторов с поликремниевыми затворамиSiliziumtortechnologie
технология МОП-транзисторов с поликремниевыми затворамиSiliziumtortechnik
технология МОП-транзисторов с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиselbstjustierende Siliziumtortechnik
технология МОП-транзисторов с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиselbstjustierende Siliziumtor
технология изготовления МОП-транзисторов с укороченным каналомKurzkanaltechnik
технология мощных МОП ИС фирмы "Сименс"SIPMOS
технология низковольтных МОП-транзисторовNiedervolt-MOS-Technik
технология низковольтных р-канальных МОП-транзисторовPMOS-Niedervolttechnik
технология получения лавинно-инжекционных МОП-структур с плавающим затворомFAMOS-Technik
технология получения МОП-структур методом двойной диффузииDouble-Diffused MOS
технология получения МОП-структур методом двойной диффузииDoppeldiffusions-MOS-Technologie
технология получения МОП-структур методом двойной диффузии с самосовмещениемDSA-MOS-Technik
технология получения МОП-структур методом двойной диффузии с самосовмещениемDiffusion Self-Aligned MOS
технология получения МОП-структур методом двойной диффузии с самосовмещениемDouble-Diffusion Self-Aligned MOS
технология получения МОП-структур методом двойной диффузии с самосовмещениемDSA MOS
технология получения МОП-структур методом диффузии с самосовмещениемDiffusion Self-Aligned MOS
технология получения МОП-структур методом диффузии с самосовмещениемDouble-Diffusion Self-Aligned MOS
технология получения МОП-структур методом диффузии с самосовмещениемDSA-MOS-Technik
технология получения МОП-структур методом диффузии с самосовмещениемDSA MOS
технология получения МОП-структур с диффундированной платинойplatindiffundierte MOS-Struktur
технология получения МОП-структур с диффундированной платинойPlatinum-Diffused MOS
технология получения МОП-структур с диффундированной платинойPLATMOS
технология получения МОП-структур с плавающим затворомMOS-Floating-Gate-Technik
технология получения МОП-структур с четырёхкратным самосовмещениемQuadrupled Self-Aligned MOS
технология получения МОП-структур с четырёхкратным самосовмещениемQSAMOS
технология р-канальных МОП ИСp-MOS-Technik PMOS-Technik
технология р-канальных МОП ИС с алюминиевыми затворамиp-Kanal-Aluminium-Gate-MOS-Technologie
технология р-канальных МОП ИС с алюминиевыми затворамиp-Alg-MOS
технология р-канальных МОП-приборовp-MOS-Technik PMOS-Technik
технология р-канальных МОП-приборовp-Kanal-Technik
технология р-канальных МОП-приборов с металлическими затворамиp-Kanal-Metall-Gate-Technologie
технология р-канальных МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-Kanal-Silicongate-Technologie
технология р-канальных МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-Kanal-Si-Gate-Technik
технология р-канальных МОП-транзисторовp-Kanal-Technik
технология р-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиpMOS-Siliziumgate-Technik
технология р-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиpSGT
технология р-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиpMOS-SGT
технология р-МОП-транзисторных ИС с самосовмещёнными поликремниевыми затворамиp-SG-MOS
технология усовершенствованных МОП ИС из нескольких МОП-транзисторов на одном кристаллеMOSAIC-Technik
усовершенствованная технология МОП ИС с самосовмещённым поликремниевым затворомAdvanced Polysilicon Self-Aligned
усовершенствованная технология МОП ИС с самосовмещённым поликремниевым затворомAPSA