 |
| |||
| reactor makeup system (предназначена для снижения концентрации борного раствора в системе теплоносителя первого контура, увеличения положительной реактивности, концентрации борного раствора в системе теплоносителя первого контура с целью повышения отрицательной реактивности, а также компенсации утечек в системе) | |||