| Russian | English |
| детектор-синхронизатор по фазе | phase-lock detector |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| нанотехнология по методу химического осаждения из газовой фазы | CVD nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из газовой фазы | chemically vapor deposition nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паровой фазы | CVD nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паровой фазы | chemically vapor deposition nanotechnology |
| неустойчивый по фазе | phase-unstable |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из газовой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из паровой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| полимеризация по границе раздела фаз | interfacial polymerization |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| поляризация, не совпадающая по фазе | out-of-phase polarization |
| пучок, модулированный по фазе | phase-modulated beam |
| разброс по фазе | phase spread |
| разделение по границе фаз | interfacial segregation |
| разделение по границе фаз под действием энтальпийной движущей силы | enthalpic force-driven interfacial segregation |
| разделение по границе фаз под действием энтропийной движущей силы | enthropic force-driven interfacial segregation |
| с фазовой модуляцией, модулированный по фазе | phase-modulated |
| сдвинутый по фазе сигнал | out-of-phase signal |
| сжатое по фазе состояние | phase-squeezed state |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| синхронизировать по фазе | phase |
| со сжатием по фазе | phase-squeezed |
| угол отставания по фазе | lagging phase angle |
| условия нагружения, не совпадающие по фазе | out-of phase loading conditions |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis facility |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
