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Terms for subject Microelectronics containing im | all forms | exact matches only
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Abgleich im Eingangskreisbalance in the input circuit
Ablagerung von Sauerstoff im Material des Siliziumwafersprecipitation of oxygen in the bulk of the silicon wafer
Ablauf im gleichen Zeitintervallconcurrency
Abmessung im Submikrometerbereichsubmicron dimension
Abtastwert im Zeitpunktsample value at time
Anlage im mittleren Kostenbereichmid-range development system
Anlage im oberen Kostenbereichhigh-end development system
Anlage im unteren Kostenbereichlow-end development system
Anlagerung von Sauerstoff im Material des Siliziumwafersprecipitation of oxygen in the bulk of the silicon wafer
Anordnung mit 128 Fotodioden im Rastermaß von 0,1 mmarray with 128 photodiodes on 0.1 mm pitch
Anschlußstruktur im Folienbondverfahrenmicrointerconnect lead pattern
Anschwellen im Naßentwicklungsprozeßswelling in the wet development process
auf eine Chromplatte im Kontaktverfahren kopierencontact-print onto a chrome plate
Aufdampfung im Vakuumvacuum evaporation
Auflösung im Submikrometerbereichsubmicron resolution
Aufquellen im Naßentwicklungsprozeßswelling in the wet development process
Aufstäuben im Hochvakuumhigh-vacuum sputtering
Ausbauchung im Waferbulge within the wafer
Ausheizung im Ofen bei 700 °Cfurnace annealing at 700 °C
Ausschnitt im Polyimidfilmcutout in the polyimide film
aussetzender Fehler im Speicherintermittent error in memory
automatische Waferhandhabung im Substrathaltercassette automatic handling
automatisches Speichern im Stapelspeicherautomatic stacking
Barriere im Oberflächenpotentialbarrier in the surface potential
Bauelementstrukturen im 1-μm-Bereichdevice geometries in the 1 μm feature region
Bauelementstrukturen im Submikrometerbereichdevice geometries with submicrometre dimensions
Belichtung im kontaktlosen Verfahrennon-contact printing
Belichtung im Kontaktverfahrencontact printing
Belichtung kleinerer Felder im Step-und-Repeat-Verfahrenstep-repeat exposure of smaller fields
Belichtung mit Wellenlängen im fernen Ultraviolettdeep UV exposure
Belichtung mit Wellenlängen im nahen UltraviolettNDRO UV exposure
benachbarte Chips im Scheibenverbandadjacent chips in the wafer matrix
Betriebsart im Bereitschaftszustandstandby mode (of operation)
Betriebsweise im Bereitschaftszustandpower-down mode
Bilder im Step-und-Repeat-Verfahren auf Wafer übertragenstep images on wafers
Bildprofil im entwickelten Resistresist profile
Bildprofil im entwickelten Resistimage profile in the developed resist
Bildprojektion im Maßstab 1:11:1 image projection (Projektionslithografie)
Bildung von Strukturelementen im 1-pm-Bereichformation of features in the 1 μm range
Bindungsenergie im Resistmolekülbond energy in the resist molecule
Blocksuchbefehl im Speichermemory block search
Blocktransfer im Speichermemory block move
Böschungsprofil der Linie im Positivresistline edge profile in positive resist
das Bild der Schablone im Verhältnis 1:1 auf den Wafer projizierenproject the image of the mask at one to one magnification on to the wafer
das Bild im Abstandsverfahren belichtenmake the print in proximity
das kleine Bildfeld im Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer reproduzierenstep the small image field over the wafer
das Programm im letzten Speicherauszugspunkt wiederanlaufen lassenrestart the program from the last dump point
das Substrat im Ionenstrahl drehenrotate the substrate in the ion beam
Defektretikel im Step-und-Repeat-Verfahren in willkürlich ausgewählte Plätze auf der Maske abbildenstep defect reticles into randomly selected locations on the mask
den Inhalt im Hilfsspeicher Zwischenspeicherndump the contents to a backing store
den Operateur im Waferhandhabungsprozeß in größtmöglichem Maße ausschalteneliminate the operator in the wafer handling process to the greatest extent possible
den Strahl in verschiedenen Stellen im Raster helltastenturn the beam on at various points in the scan
Dicke im Mittelpunktcentre-point thickness
Dicke Null im Abschnürpunktzero-access thickness at the point of pinch-off
die Daten im Multiplexbetrieb in den Bus speisenmultiplex the information onto the bus (eingeben)
die Schaltung im Versuchsaufbau herstellenbreadboard the circuit
die Schicht im belichteten Bereich unlöslich macheninsolubilize the coating in the exposed region
die Störstellen im massiven Wafermaterial anlagerntrap the defects in the bulk of the wafer
die Substrate im Gehäuse installierenmount the substrates in the package
die vorhandenen Daten im Datenfeld verfälschendistort the existing data in the field
Direktbelichtung der Wafer im lithografischen Verfahrendirect lithography on wafers (s.a. direct writing on the wafer)
Direktbelichtung der Wafer im Step-und-Repeat-Verfahrendirect wafer stepping
Direktbelichtung der Wafer im Step-und-Repeat-Verfahrendirect stepping on wafers
direkte Waferbelichtung im Step-und-Repeat-Verfahrendirect-step-on-wafer exposure
Donatordichte im Kollektorcollector donor density
Drainstrom im Abschnürpunktdrain current at the point of pinch-off (MOSFET)
Drainstrom im äußeren Anschlußdrain current in the external terminal
Durchbruch im Polyimidfilmcutout in the polyimide film
ein einziges großformatiges Bild im Abbildungsmaßstab 1:1 projizierenproject a single large format image at final size
ein Programm im Speicher löschenerase a program from memory
Einbau von stark absorbierenden Chloratomen im Resistincorporation of strongly absorbing chlorine atoms in the resist
eine im Register gespeicherte Zahl erhöhenadvance a number stored in a register
eine konstante Linienbreite im Resist einhaltenmaintain a constant resist feature size
eine Lichtsonde im Abtastverfahren über einen Defekt führenscan a light spot over a defect
eine Struktur im Fotoresist auf dem Wafer schreiben belichtendelineate a pattem in the photoresist film on a wafer (Elektronenstrahllithografie)
einen Befehl im Hauptspeicher wiederauffindenretrieve an instruction from main memory
einen Wafer im Step-und-Repeat-Verfahren belichtenexpose a wafer in step-repeat fashion
Einfang im pn-Übergangsbereichtrapping in the junction region
Einzelbildabstand im Step-und-Repeat-Felddie step-and-repeat distance
Elektronenstrahlschreiben von Bauelementstrukturen im Submikrometerbereichelectron-beam delineation of submicron geometry devices
Elektronenstrahlsonde mit einem Durchmesser im Mikrometerbereichmicron-sized electron-beam probe
Elektronenstreuung im Schichtsubstrattargetelectron scattering within the film-substrate target
Erhebung im Siliziumstep in silicon
Fehler im Gerät feststellendiagnose malfunctions in the equipment (erkennen)
Fehler im logischen Schaltungsentwurflogic design flaw
Fehler im Schaltungsentwurfcircuit design flaw
Fehler im Übertragungsrasterframing error (Formfehler bei der seriellen Datenübertragung)
Fertigungsfehler im optischen Systemfabrication error in the optical system
Fertigungstechnik im Submikrometerbereichsubmicron microfabrication technology
Feststellung von fehlerhaften Plazierungen im Entwurfidentification of misplacements in the design
FET mit Kanallängen im Submikrometerbereichsubmicron channel length FET
geometrische Struktur im Mikrometerbereichmicron-sized geometry
Gerade im Diagrammstraight line on the graph
Gettern im Kristallgitterintrinsic gettering
große Datenmengen im On-line-Betrieb in einem Zentralprozessor speichernstore large volumes of data on-line to a central processor
Halbleiterscheibe im gesägten Zustandas-sawn slice
im Bearbeitungsprozeß befindliches Substratsubstrate-in-process
im 1- bis 5-MHz-Bereich arbeitenoperate over a 1-to-5 megahertz range
im Dialoginteractive
im Einsatz versagenfail in the field
im Kontaktverfahren verwendete Abstandsjustier- und Belichtungsanlageproving machine used in contact mode
im L-Zustand bleibenstay low
im Projektionsverfahren belichtenproject-print
im 1:1-Projektionsverfahren belichteter Wafer1:1 printed wafer
im Ruhezustand betreibenpower down
im Siebdruck hergestelltscreened-on (z. B. Widerstände)
im Speicher ohne Änderung umlaufencirculate in the store without alteration
im Sperrbereichat cutoff (Transistor)
im Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer mehrfach reproduzierenstep and repeat across the wafer
im Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer schachbrettartig vervielfältigenstep and repeat on the wafer
im Step-und-Repeat-Verfahren belichtenstep-and-repeat-print (kopieren)
im Step-und-Repeat-Verfahren belichtenexpose in a step-and-repeat fashion
im Step-und-Repeat-Verfahren die Struktur auf dem Wafer vielfach abbildenstep the pattern across the wafer (reproduzieren)
im Step-und-Repeat-Verfahren übertragenstep and repeat
im Sättigungszustand arbeitenoperate in saturation
im Temperaturbereich von 0 bis 50 °C arbeitenoperate over the temperature range from 0 to 50 °C
im Vakuum aufdampfenvacuum-deposit
im Verkehr stehen mitcommunicate with
im Wartezustandidle
im Übersteuerungsbereichin saturation (Transistor)
in Datenleitungen im Eingabezustanddata bus
Inversion im Kanal hervorrufenproduce inversion in the channel
Ionensonde im Submikrometerbereichsubmicron focussed ion beam
kleinste Abmessungen im 1 bis 2-Mikrometerbereichleast dimensions in the 1 to 2 μm range
kleinste Strukturbreite im Submikrometerbereichsubmicron minimum feature size
Leistungsverbrauch im Ruhezustandstandby power consumption
Leistungsverbrauch im Ruhezustandquiescent power consumption
Leistungsverbrauch im Ruhezustandpower dissipation on standby
Linien im Abstand von 50 nmlines on 50 nm pitch
Marken im Wafertisch eingravierenengrave marks in the wafer stage
Maskenjustierung durch ein Objektiv im Projektionsverfahrenproject mask alignment through a lens
MESFET im Verarmungsbetriebdepletion-mode MESFET
Messung im laufenden Verfahrenin-process measurement
mikrolithografische Fertigungsmöglichkeit im Submikrometerbereichsubmicron microlithographic capability
Mikromeßsystem für Strukturen im Submikrometerbereichmicromeasurement system for submicron geometries
mit der optischen Achse im Mittelpunktcentred about the optical axis
5 mm x 5 mm-Felder rasterförmig im Step-und-Repeat-Verfahren belichtenexpose 5 mm x 5 mm fields in step-and-repeat raster-scan fashion
Montage im Gestellrahmenrack mounting
Möglichkeit der Kombination linearer und digitaler Schaltungen im gleichen Siliziumchipdigilin capability
n-Dotierungsstoffe im Trägergasn-type impurity in carrier gas
nicht im Speicher befindliches Programmnon-resident routine
optische Belichtung im Kontaktverfahrenoptical contact-printing exposure
Potential im massiven Material des Siliziumspotential in the bulk of the silicon
Programmieren im Teilnehmersystemtime-shared programming
Radixpunkt im dezimalen Zahlendarstellungssystemradix point in the decimal notation system
realer Rahmen im Arbeitsspeicherpage frame in main memory
Realseitenrahmen im Arbeitsspeicherpage frame in main memory
Reststrom des Adreßbusses im HOLD-Zustandaddress bus leakage during HOLD
Reststrom des Datenbusses im Eingangszustanddata bus leakage in input mode
Risse im Substratmaterialcrow's feet (in Form eines Krähen fußes)
Rundung im Divisionsverfahrenround-off in the division process
Schaltgeschwindigkeit im Nanosekundenbereichnanosecond switching speed
Schaltgeschwindigkeit im Pikosekundenbereichpicosecond switching speed
Schaltkreisstrukturen im Additionsverfahren direkt auf Wafer verkleinert abbildenstep and repeat circuit patterns directly on wafers
Schaltkreistechnik im Submikrometerbereichsubmicron circuit technology
Schreiben der gewünschten Struktur im Resistdelineation of the desired pattern in the resist
sich im Durchschnitt auf eine Maske je Wafer belaufenaverage out to one mask required per wafer
sich im freien Zustand bis zu 15 μm durchbiegenbow up to 15 μm in the free state
sich im Gleichlauf befindentrack
sich im umgekehrten Verhältnis ändern wie die Anzahl der Wafer-Masken-Kontaktevary inversely as the number of wafer-to-mask contacts
sich im Verhältnis von 1/K verkleinernscale as 1/K
sich im Wert ändernvary in value
sich im wesentlichen geradlinig auf den Vakuumkammerwänden niederschlagendeposit essentially line-of-sight on the vacuum chamber walls (Ionenstrahlätzen)
Sonde mit einem Durchmesser im Submikrometerbereichsubmicron size probe
Spannung im Durchlaßzustandon-state voltage
Spannung im Kristallgitterstructural stress
Spannungsabfall im Transistorvoltage drop across the transistor
Speicher mit geschütztem Inhalt im Bereitschaftszustandpower-down store (bei Ausfall oder Abschaltung der Versorgungsspannung)
Sperrschicht im Draingebietdrain junction
Sperrschicht im Source-Gebietsource junction
steile Absorptionskante im Langwelligensharp cutoff in the long-wavelength region
steile Kante im Langwelligensharp cutoff in the long-wavelength region
Stellenwertpunkt im dezimalen Zahlendarstellungssystemradix point in the decimal notation system
Strahlstrom im Crossoverbeam current at the crossover
strahlungsbedingte Störung im Gitterradiation-induced defect in the lattice
Struktur mit Abmessungen im Submikrometerbereichpattern with submicron geometries
Strukturbilder auf die Halbleiterscheibe im Step-und-Repeat-Verfahren übertragenstep and repeat images across on the wafer
Strukturen auf der Scheibe direkt im Resist herstellenpattern images on the slice directly in the resist
Strukturen im Bereich von 0,5 bis 1 μmgeometry in the 0.5-to-1 μm range
Strukturen im Step-und-Repeat-Verfahren direkt auf Wafer übertragenstep and repeat circuit patterns directly on wafers
Strukturierung im Submikrometerbereichsubmicron patterning
Strukturierung im Submikrometerbereichpatterning in the submicron range
Strukturübertragung im Verhältnis 1:1image transfer at a 1:1 ratio
Sublimation /im Vakuumvacuum sublimation
symmetrisch im Links-Rechts-Sinn um eine vertikale Mittelliniesymmetrical in a left-right sense around a vertical centreline
System im mittleren Kostenbereichmid-range development system
System im oberen Kostenbereichhigh-end development system
System im unteren Kostenbereichlow-end development system
Teildurchprüfung im Bocksprungprogrammcrippled leapfrog test
Teilerfunktion im Verhältnis 1:2divide-by-two function
Teilerstufe im Verhältnis 1:2divide-by-two stage
Testen im Schaltkreisin-circuit testing
Transistor im gesperrten Zustandtransistor at cutoff
Unterschied im spezifischen Wider stand um eine Größenordnungorder-of-magnitude difference in resistivity
vereinzelte Chips im Scheibenverband auf dem Substratseparated chips in wafer matrix on substrate
Verkappen im Spritzgußverfahreninjection moulding
Verlustleistung im eingeschalteten Zustandon-state power dissipation
Verlustleistung im Ruhezustandpower dissipation on standby
Verlustleistung im Ruhezustandquiescent power dissipation
Verlustleistung im Ruhezustanddissipation during standby
Verschiebung von Wafer und Maske im Stop-and-go-Betriebstop-and-go wafer and mask displacement
Vertiefung im Siliziumgroove in silicon
Verzögerung im Subnanosekundenbereichsubnanosecond delay
VLSI-Schaltkreise mit Strukturabmessungen im Mikrometer- oder Submikrometerbereich herstellenfabricate VLSI circuits with 1 micron geometries or smaller
vorausbestimmter Platz im Programmspeicherpredetermined location in program memory
Vorhärten im Infrarotofeninfrared softbaking
Vortrocknen im Infrarotofeninfrared softbaking
Vortrocknungszeit im Ofenoven softbaking time
Waferbelichtung im Abbildungsmaßstab 1:11:1 wafer printing
Wiederauffindung der Daten im Speicherdata retrieval from the memory
zeitweilige Unterbrechungen im Programmablauf einfügenintroduce temporary pauses in program execution
Zugriff auf Daten im Plattenspeicherdisk accessing
Zusatzmöglichkeit des Betriebs im Bereitschaftszustandpower-down feature
Öffnungen im Resistopenings in the resist
Überdeckungsforderungen im Submikrometerbereichoverlay requirements in the submicrometre region
Übertragung der Bilder im Step-und-Repeat-Verfahren auf den Waferstep-and-repeat wafer imaging (s.a. wafer stepping)
Übertragungsfehler im Step-und-Repeat-Verfahrenstepping error