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Microelectronics
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Abgleich
im
Eingangskreis
balance in the input circuit
Ablagerung von Sauerstoff
im
Material des Siliziumwafers
precipitation of oxygen in the bulk of the silicon wafer
Ablauf
im
gleichen Zeitintervall
concurrency
Abmessung
im
Submikrometerbereich
submicron dimension
Abtastwert
im
Zeitpunkt
sample value at time
Anlage
im
mittleren Kostenbereich
mid-range development system
Anlage
im
oberen Kostenbereich
high-end development system
Anlage
im
unteren Kostenbereich
low-end development system
Anlagerung von Sauerstoff
im
Material des Siliziumwafers
precipitation of oxygen in the bulk of the silicon wafer
Anordnung mit 128 Fotodioden
im
Rastermaß von 0,1 mm
array with 128 photodiodes on 0.1 mm pitch
Anschlußstruktur
im
Folienbondverfahren
microinterconnect lead pattern
Anschwellen
im
Naßentwicklungsprozeß
swelling in the wet development process
auf eine Chromplatte
im
Kontaktverfahren kopieren
contact-print onto a chrome plate
Aufdampfung
im
Vakuum
vacuum evaporation
Auflösung
im
Submikrometerbereich
submicron resolution
Aufquellen
im
Naßentwicklungsprozeß
swelling in the wet development process
Aufstäuben
im
Hochvakuum
high-vacuum sputtering
Ausbauchung
im
Wafer
bulge within the wafer
Ausheizung
im
Ofen bei 700 °C
furnace annealing at 700 °C
Ausschnitt
im
Polyimidfilm
cutout in the polyimide film
aussetzender Fehler
im
Speicher
intermittent error in memory
automatische Waferhandhabung
im
Substrathalter
cassette automatic handling
automatisches Speichern
im
Stapelspeicher
automatic stacking
Barriere
im
Oberflächenpotential
barrier in the surface potential
Bauelementstrukturen
im
1-μm-Bereich
device geometries in the 1 μm feature region
Bauelementstrukturen
im
Submikrometerbereich
device geometries with submicrometre dimensions
Belichtung
im
kontaktlosen Verfahren
non-contact printing
Belichtung
im
Kontaktverfahren
contact printing
Belichtung kleinerer Felder
im
Step-und-Repeat-Verfahren
step-repeat exposure of smaller fields
Belichtung mit Wellenlängen
im
fernen Ultraviolett
deep UV exposure
Belichtung mit Wellenlängen
im
nahen Ultraviolett
NDRO UV exposure
benachbarte Chips
im
Scheibenverband
adjacent chips in the wafer matrix
Betriebsart
im
Bereitschaftszustand
standby mode
(of operation)
Betriebsweise
im
Bereitschaftszustand
power-down mode
Bilder
im
Step-und-Repeat-Verfahren auf Wafer übertragen
step images on wafers
Bildprofil
im
entwickelten Resist
resist profile
Bildprofil
im
entwickelten Resist
image profile in the developed resist
Bildprojektion
im
Maßstab 1:1
1:1 image projection
(Projektionslithografie)
Bildung von Strukturelementen
im
1-pm-Bereich
formation of features in the 1 μm range
Bindungsenergie
im
Resistmolekül
bond energy in the resist molecule
Blocksuchbefehl
im
Speicher
memory block search
Blocktransfer
im
Speicher
memory block move
Böschungsprofil der Linie
im
Positivresist
line edge profile in positive resist
das Bild der Schablone
im
Verhältnis 1:1 auf den Wafer projizieren
project the image of the mask at one to one magnification on to the wafer
das Bild
im
Abstandsverfahren belichten
make the print in proximity
das kleine Bildfeld
im
Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer reproduzieren
step the small image field over the wafer
das Programm
im
letzten Speicherauszugspunkt wiederanlaufen lassen
restart the program from the last dump point
das Substrat
im
Ionenstrahl drehen
rotate the substrate in the ion beam
Defektretikel
im
Step-und-Repeat-Verfahren in willkürlich ausgewählte Plätze auf der Maske abbilden
step defect reticles into randomly selected locations on the mask
den Inhalt
im
Hilfsspeicher Zwischenspeichern
dump the contents to a backing store
den Operateur
im
Waferhandhabungsprozeß in größtmöglichem Maße ausschalten
eliminate the operator in the wafer handling process to the greatest extent possible
den Strahl in verschiedenen Stellen
im
Raster helltasten
turn the beam on at various points in the scan
Dicke
im
Mittelpunkt
centre-point thickness
Dicke Null
im
Abschnürpunkt
zero-access thickness at the point of pinch-off
die Daten
im
Multiplexbetrieb in den Bus speisen
multiplex the information onto the bus
(eingeben)
die Schaltung
im
Versuchsaufbau herstellen
breadboard the circuit
die Schicht
im
belichteten Bereich unlöslich machen
insolubilize the coating in the exposed region
die Störstellen
im
massiven Wafermaterial anlagern
trap the defects in the bulk of the wafer
die Substrate
im
Gehäuse installieren
mount the substrates in the package
die vorhandenen Daten
im
Datenfeld verfälschen
distort the existing data in the field
Direktbelichtung der Wafer
im
lithografischen Verfahren
direct lithography on wafers
(s.a. direct writing on the wafer)
Direktbelichtung der Wafer
im
Step-und-Repeat-Verfahren
direct wafer stepping
Direktbelichtung der Wafer
im
Step-und-Repeat-Verfahren
direct stepping on wafers
direkte Waferbelichtung
im
Step-und-Repeat-Verfahren
direct-step-on-wafer exposure
Donatordichte
im
Kollektor
collector donor density
Drainstrom
im
Abschnürpunkt
drain current at the point of pinch-off
(MOSFET)
Drainstrom
im
äußeren Anschluß
drain current in the external terminal
Durchbruch
im
Polyimidfilm
cutout in the polyimide film
ein einziges großformatiges Bild
im
Abbildungsmaßstab 1:1 projizieren
project a single large format image at final size
ein Programm
im
Speicher löschen
erase a program from memory
Einbau von stark absorbierenden Chloratomen
im
Resist
incorporation of strongly absorbing chlorine atoms in the resist
eine
im
Register gespeicherte Zahl erhöhen
advance a number stored in a register
eine konstante Linienbreite
im
Resist einhalten
maintain a constant resist feature size
eine Lichtsonde
im
Abtastverfahren über einen Defekt führen
scan a light spot over a defect
eine Struktur
im
Fotoresist auf dem Wafer schreiben
belichten
delineate a pattem in the photoresist film on a wafer
(Elektronenstrahllithografie)
einen Befehl
im
Hauptspeicher wiederauffinden
retrieve an instruction from main memory
einen Wafer
im
Step-und-Repeat-Verfahren belichten
expose a wafer in step-repeat fashion
Einfang
im
pn-Übergangsbereich
trapping in the junction region
Einzelbildabstand
im
Step-und-Repeat-Feld
die step-and-repeat distance
Elektronenstrahlschreiben von Bauelementstrukturen
im
Submikrometerbereich
electron-beam delineation of submicron geometry devices
Elektronenstrahlsonde mit einem Durchmesser
im
Mikrometerbereich
micron-sized electron-beam probe
Elektronenstreuung
im
Schichtsubstrattarget
electron scattering within the film-substrate target
Erhebung
im
Silizium
step in silicon
Fehler
im
Gerät feststellen
diagnose malfunctions in the equipment
(erkennen)
Fehler
im
logischen Schaltungsentwurf
logic design flaw
Fehler
im
Schaltungsentwurf
circuit design flaw
Fehler
im
Übertragungsraster
framing error
(Formfehler bei der seriellen Datenübertragung)
Fertigungsfehler
im
optischen System
fabrication error in the optical system
Fertigungstechnik
im
Submikrometerbereich
submicron microfabrication technology
Feststellung von fehlerhaften Plazierungen
im
Entwurf
identification of misplacements in the design
FET mit Kanallängen
im
Submikrometerbereich
submicron channel length FET
geometrische Struktur
im
Mikrometerbereich
micron-sized geometry
Gerade
im
Diagramm
straight line on the graph
Gettern
im
Kristallgitter
intrinsic gettering
große Datenmengen
im
On-line-Betrieb in einem Zentralprozessor speichern
store large volumes of data on-line to a central processor
Halbleiterscheibe
im
gesägten Zustand
as-sawn slice
im
Bearbeitungsprozeß befindliches Substrat
substrate-in-process
im
1- bis 5-MHz-Bereich arbeiten
operate over a 1-to-5 megahertz range
im
Dialog
interactive
im
Einsatz versagen
fail in the field
im
Kontaktverfahren verwendete Abstandsjustier- und Belichtungsanlage
proving machine used in contact mode
im
L-Zustand bleiben
stay low
im
Projektionsverfahren belichten
project-print
im
1:1-Projektionsverfahren belichteter Wafer
1:1 printed wafer
im
Ruhezustand betreiben
power down
im
Siebdruck hergestellt
screened-on
(z. B. Widerstände)
im
Speicher ohne Änderung umlaufen
circulate in the store without alteration
im
Sperrbereich
at cutoff
(Transistor)
im
Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer mehrfach reproduzieren
step and repeat across the wafer
im
Step-und-Repeat-Verfahren auf dem Wafer schachbrettartig vervielfältigen
step and repeat on the wafer
im
Step-und-Repeat-Verfahren belichten
step-and-repeat-print
(kopieren)
im
Step-und-Repeat-Verfahren belichten
expose in a step-and-repeat fashion
im
Step-und-Repeat-Verfahren die Struktur auf dem Wafer vielfach abbilden
step the pattern across the wafer
(reproduzieren)
im
Step-und-Repeat-Verfahren übertragen
step and repeat
im
Sättigungszustand arbeiten
operate in saturation
im
Temperaturbereich von 0 bis 50 °C arbeiten
operate over the temperature range from 0 to 50 °C
im
Vakuum aufdampfen
vacuum-deposit
im
Verkehr stehen mit
communicate with
im
Wartezustand
idle
im
Übersteuerungsbereich
in saturation
(Transistor)
in Datenleitungen
im
Eingabezustand
data bus
Inversion
im
Kanal hervorrufen
produce inversion in the channel
Ionensonde
im
Submikrometerbereich
submicron focussed ion beam
kleinste Abmessungen
im
1 bis 2-Mikrometerbereich
least dimensions in the 1 to 2 μm range
kleinste Strukturbreite
im
Submikrometerbereich
submicron minimum feature size
Leistungsverbrauch
im
Ruhezustand
standby power consumption
Leistungsverbrauch
im
Ruhezustand
quiescent power consumption
Leistungsverbrauch
im
Ruhezustand
power dissipation on standby
Linien
im
Abstand von 50 nm
lines on 50 nm pitch
Marken
im
Wafertisch eingravieren
engrave marks in the wafer stage
Maskenjustierung durch ein Objektiv
im
Projektionsverfahren
project mask alignment through a lens
MESFET
im
Verarmungsbetrieb
depletion-mode MESFET
Messung
im
laufenden Verfahren
in-process measurement
mikrolithografische Fertigungsmöglichkeit
im
Submikrometerbereich
submicron microlithographic capability
Mikromeßsystem für Strukturen
im
Submikrometerbereich
micromeasurement system for submicron geometries
mit der optischen Achse
im
Mittelpunkt
centred about the optical axis
5 mm x 5 mm-Felder rasterförmig
im
Step-und-Repeat-Verfahren belichten
expose 5 mm x 5 mm fields in step-and-repeat raster-scan fashion
Montage
im
Gestellrahmen
rack mounting
Möglichkeit der Kombination linearer und digitaler Schaltungen
im
gleichen Siliziumchip
digilin capability
n-Dotierungsstoffe
im
Trägergas
n-type impurity in carrier gas
nicht
im
Speicher befindliches Programm
non-resident routine
optische Belichtung
im
Kontaktverfahren
optical contact-printing exposure
Potential
im
massiven Material des Siliziums
potential in the bulk of the silicon
Programmieren
im
Teilnehmersystem
time-shared programming
Radixpunkt
im
dezimalen Zahlendarstellungssystem
radix point in the decimal notation system
realer Rahmen
im
Arbeitsspeicher
page frame in main memory
Realseitenrahmen
im
Arbeitsspeicher
page frame in main memory
Reststrom des Adreßbusses
im
HOLD-Zustand
address bus leakage during HOLD
Reststrom des Datenbusses
im
Eingangszustand
data bus leakage in input mode
Risse
im
Substratmaterial
crow's feet
(in Form eines Krähen fußes)
Rundung
im
Divisionsverfahren
round-off in the division process
Schaltgeschwindigkeit
im
Nanosekundenbereich
nanosecond switching speed
Schaltgeschwindigkeit
im
Pikosekundenbereich
picosecond switching speed
Schaltkreisstrukturen
im
Additionsverfahren direkt auf Wafer verkleinert abbilden
step and repeat circuit patterns directly on wafers
Schaltkreistechnik
im
Submikrometerbereich
submicron circuit technology
Schreiben der gewünschten Struktur
im
Resist
delineation of the desired pattern in the resist
sich
im
Durchschnitt auf eine Maske je Wafer belaufen
average out to one mask required per wafer
sich
im
freien Zustand bis zu 15 μm durchbiegen
bow up to 15 μm in the free state
sich
im
Gleichlauf befinden
track
sich
im
umgekehrten Verhältnis ändern wie die Anzahl der Wafer-Masken-Kontakte
vary inversely as the number of wafer-to-mask contacts
sich
im
Verhältnis von 1/K verkleinern
scale as 1/K
sich
im
Wert ändern
vary in value
sich
im
wesentlichen geradlinig auf den Vakuumkammerwänden niederschlagen
deposit essentially line-of-sight on the vacuum chamber walls
(Ionenstrahlätzen)
Sonde mit einem Durchmesser
im
Submikrometerbereich
submicron size probe
Spannung
im
Durchlaßzustand
on-state voltage
Spannung
im
Kristallgitter
structural stress
Spannungsabfall
im
Transistor
voltage drop across the transistor
Speicher mit geschütztem Inhalt
im
Bereitschaftszustand
power-down store
(bei Ausfall oder Abschaltung der Versorgungsspannung)
Sperrschicht
im
Draingebiet
drain junction
Sperrschicht
im
Source-Gebiet
source junction
steile Absorptionskante
im
Langwelligen
sharp cutoff in the long-wavelength region
steile Kante
im
Langwelligen
sharp cutoff in the long-wavelength region
Stellenwertpunkt
im
dezimalen Zahlendarstellungssystem
radix point in the decimal notation system
Strahlstrom
im
Crossover
beam current at the crossover
strahlungsbedingte Störung
im
Gitter
radiation-induced defect in the lattice
Struktur mit Abmessungen
im
Submikrometerbereich
pattern with submicron geometries
Strukturbilder auf die Halbleiterscheibe
im
Step-und-Repeat-Verfahren übertragen
step and repeat images across
on
the wafer
Strukturen auf der Scheibe direkt
im
Resist herstellen
pattern images on the slice directly in the resist
Strukturen
im
Bereich von 0,5 bis 1 μm
geometry in the 0.5-to-1 μm range
Strukturen
im
Step-und-Repeat-Verfahren direkt auf Wafer übertragen
step and repeat circuit patterns directly on wafers
Strukturierung
im
Submikrometerbereich
submicron patterning
Strukturierung
im
Submikrometerbereich
patterning in the submicron range
Strukturübertragung
im
Verhältnis 1:1
image transfer at a 1:1 ratio
Sublimation /
im
Vakuum
vacuum sublimation
symmetrisch
im
Links-Rechts-Sinn um eine vertikale Mittellinie
symmetrical in a left-right sense around a vertical centreline
System
im
mittleren Kostenbereich
mid-range development system
System
im
oberen Kostenbereich
high-end development system
System
im
unteren Kostenbereich
low-end development system
Teildurchprüfung
im
Bocksprungprogramm
crippled leapfrog test
Teilerfunktion
im
Verhältnis 1:2
divide-by-two function
Teilerstufe
im
Verhältnis 1:2
divide-by-two stage
Testen
im
Schaltkreis
in-circuit testing
Transistor
im
gesperrten Zustand
transistor at cutoff
Unterschied
im
spezifischen Wider stand um eine Größenordnung
order-of-magnitude difference in resistivity
vereinzelte Chips
im
Scheibenverband auf dem Substrat
separated chips in wafer matrix on substrate
Verkappen
im
Spritzgußverfahren
injection moulding
Verlustleistung
im
eingeschalteten Zustand
on-state power dissipation
Verlustleistung
im
Ruhezustand
power dissipation on standby
Verlustleistung
im
Ruhezustand
quiescent power dissipation
Verlustleistung
im
Ruhezustand
dissipation during standby
Verschiebung von Wafer und Maske
im
Stop-and-go-Betrieb
stop-and-go wafer and mask displacement
Vertiefung
im
Silizium
groove in silicon
Verzögerung
im
Subnanosekundenbereich
subnanosecond delay
VLSI-Schaltkreise mit Strukturabmessungen
im
Mikrometer- oder Submikrometerbereich herstellen
fabricate VLSI circuits with 1 micron geometries or smaller
vorausbestimmter Platz
im
Programmspeicher
predetermined location in program memory
Vorhärten
im
Infrarotofen
infrared softbaking
Vortrocknen
im
Infrarotofen
infrared softbaking
Vortrocknungszeit
im
Ofen
oven softbaking time
Waferbelichtung
im
Abbildungsmaßstab 1:1
1:1 wafer printing
Wiederauffindung der Daten
im
Speicher
data retrieval from the memory
zeitweilige Unterbrechungen
im
Programmablauf einfügen
introduce temporary pauses in program execution
Zugriff auf Daten
im
Plattenspeicher
disk accessing
Zusatzmöglichkeit des Betriebs
im
Bereitschaftszustand
power-down feature
Öffnungen
im
Resist
openings in the resist
Überdeckungsforderungen
im
Submikrometerbereich
overlay requirements in the submicrometre region
Übertragung der Bilder
im
Step-und-Repeat-Verfahren auf den Wafer
step-and-repeat wafer imaging
(s.a. wafer stepping)
Übertragungsfehler
im
Step-und-Repeat-Verfahren
stepping error
Get short URL