DictionaryForumContacts

   Russian
Terms for subject Microelectronics containing осаждение | all forms | exact matches only
RussianGerman
автоматическая установка термовакуумного осаждения плёнокAutomatic Vacuum Deposition System
безэлектронное осаждениеstromlose Belegung
безэлектронное осаждениеstromlose Abscheidung
вакуумное осаждениеAbscheidung im Vakuum
вакуумное осаждениеAbscheiden im Vakuum
вакуумное осаждениеVakuumabscheidung
гетероэпитаксиальное осаждениеHeteroepitaxie
гетероэпитаксиальное осаждениеheteroepitaxiales Aufwachsen
гетероэпитаксиальное осаждениеheteroepitaxiales Abscheiden
гетероэпитаксиальное осаждениеheteroepitaxiale Abscheidung
гетероэпитаксиальное осаждениеheteroepitaktische Abscheidung
ионное осаждениеIonenplattieren
лазерное осаждениеLaserbeschichtung
лазерное осаждение тонких плёнокlasergestützte Schichtabscheidung
лазерно-стимулированное осаждениеLaserbeschichtung
лазерный метод осаждения металлических или тонких диэлектрических плёнокLaserbeschichtung
локальное эпитаксиальное осаждениеLokalepitaxie
маска для термовакуумного осажденияVakuumaufdampfungsmaske
метод аксиального осаждения из газовой фазыVAD-Verfahren
метод аксиального осаждения из паровой фазыVAD-Verfahren
метод осаждения SiO2 окислением моносиланаAblagerungsoxydation
метод пиролитического осажденияAbscheidung durch thermische Zersetzung
метод термовакуумного осаждения из паровой фазыPVD-Verfahren
метод химического осаждения из газовой фазыChemical Vapour Deposition
метод химического осаждения из газовой фазыchemische Dampf phasenabscheidung
метод химического осаждения из газовой фазыchemische Dampfphasenabscheidung
метод химического осаждения из газовой фазыCVD-Verfahren
метод химического осаждения из газовой фазыCVD
метод химического осаждения из газовой фазы с плазменным стимулированиемPlasma-CVD-Technik
метод химического осаждения из паров металлоорганических соединенийMOCVD-Verfahren
метод химического осаждения из паровой фазыChemical Vapour Deposition
метод химического осаждения из паровой фазыCVD-Verfahren
метод химического осаждения из паровой фазыchemische Dampfphasenabscheidung
метод химического осаждения из паровой фазыchemische Dampf phasenabscheidung
метод химического осаждения из паровой фазыCVD
метод химического осаждения из паровой фазы с плазменным стимулированиемPlasma-CVD-Technik
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазыmodifiziertes CVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазыMCVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы при избыточном давленииÜberdruck-MCVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из паровой фазыmodifiziertes CVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из паровой фазыMCVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из паровой фазы при избыточном давленииÜberdruck-MCVD-Verfahren
нанесение покрытий методом ионно-лучевого осажденияIonenstrahlbeschichtung
низкотемпературное осаждениеTieftemperaturabscheidung (из газовой фазы)
осаждение в тлеющем разрядеGlimmentladungsabscheidung
осаждение из газовой фазыGasphasenabscheidung
осаждение из газовой фазыAbscheiden aus der Gasphase
осаждение из газовой фазыDampfabscheidung
осаждение из газовой фазыAbscheidung aus der Gasphase
осаждение из паровой фазыGasphasenabscheidung
осаждение из паровой фазыAbscheidung
осаждение из паровой фазыAbscheiden aus der Dampfphase
осаждение из паровой фазыDampfabscheidung
осаждение методом ионного распыленияAufsputtern
осаждение окислаOxidabscheidung
осаждение плёнкиSchichtabscheidung
осаждение плёнокSchichtabscheidung
осаждение под заданным углом наклонаSchrägbeschichtung
осаждение под заданным углом наклонаSchrägbedampfung Schrägbeschichtung
осаждение под заданным углом наклонаSchrägbedampfung
осаждение под заданным углом наклонаSchrägaufdampfung
осаждение распылениемZerstäubungsabscheidung
осаждение слояSchichtabscheidung
осаждение тонких плёнокDünnschichtabscheidung
пиролитическое осаждениеpyrolytische Abscheidung
пиролитическое осаждениеAbscheidung durch thermische Zersetzung
плазмохимический метод осажденияPlasma-CVD-Technik
плазмохимический метод осажденияPCVD-Prozess
плазмохимическое осаждениеplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
плазмохимическое осаждениеplasmaunterstützte
плазмохимическое осаждениеplasmaunterstützte CVD
плазмохимическое осаждениеPlasma-CVD-Technik
плазмохимическое осаждениеplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
плазмохимическое осаждениеPCVD-Prozess
скорость осажденияAbscheidungsrate
термовакуумное осаждениеVakuumbedampfung
термовакуумное осаждениеVakuumaufdampfung
трафарет для термовакуумного осажденияVakuumaufdampfungsmaske
установка термовакуумного осажденияVakuumbedampfungsanlage
установка химического осаждения из газовой фазыCVD-System
установка химического осаждения из газовой фазыCVD-Anlage
установка химического осаждения из паровой фазыCVD-System
установка химического осаждения из паровой фазыCVD-Anlage
химическое осаждениеchemisches Abscheiden
химическое осаждениеchemische Belegung
химическое осаждениеchemische Abscheidung
химическое осаждение из газовой фазыFoto-CVD
химическое осаждение из газовой фазыchemische Dampfabscheidung
химическое осаждение из газовой фазыCVD
химическое осаждение из газовой фазы в вакуумеVakuum-CVD
химическое осаждение из газовой фазы в вакуумеV-CVD
химическое осаждение из газовой фазы при низком давленииLow-Pressure CVD
химическое осаждение из газовой фазы при низком давленииLPCVD
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированиемplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированиемplasmaunterstützte CVD
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированиемplasmaunterstützte
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированиемplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированиемPCVD-Prozess
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийmetall organisches Aufdampfverfahren
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийmetallorganisches Aufdampfverfahren
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийMO-CVD
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийmetallorganische chemische Dampfabscheidung
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийMetal-Organic CVD
химическое осаждение из паров металлоорганических соединенийMOCVD
химическое осаждение из паровой фазыCVD
химическое осаждение из паровой фазыchemische Dampfabscheidung
химическое осаждение из паровой фазыFoto-CVD
химическое осаждение из паровой фазы в вакуумеV-CVD
химическое осаждение из паровой фазы в вакуумеVakuum-CVD
химическое осаждение из паровой фазы при низком давленииLPCVD
химическое осаждение из паровой фазы при низком давленииLow-Pressure CVD
химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемplasmaunterstützte CVD
химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемplasmaunterstützte
химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемplasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
химическое осаждение из паровой фазы с плазменным стимулированиемPCVD-Prozess
химическое осаждение из паровой фазы силанаSilan-CVD
цикл осажденияAbscheidungszyklus
электролитическое осаждениеgalvanisches Abscheiden
электролитическое осаждениеelektrolytisches Abscheiden
эпитаксиальное осаждениеepitaxiales Abscheiden
эпитаксиальное осаждениеepitaxiales Aufwachsen
эпитаксиальное осаждениеEpitaxie
эпитаксиальное осаждениеepitaktische Abscheidung