| Subject | Russian | English |
| nano | газ в технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD gas |
| nano | газ в технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition gas |
| nano | материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| nano | нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD nanofabrication |
| nano | нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| nano | НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| nano | НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| nano | НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| nano | НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| nano | НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| nano | НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| nano | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| nano | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| nano | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из газовой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| nano | очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology cleaning |
| nano | очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| nano | полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| nano | полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| nano | синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis |
| nano | синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| nano | технология модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-technology |
| nano | технология осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD technology |
| nano | технология осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | metalorganic chemical vapor deposition technology |
| nano | технология химического осаждения из газовой фазы | CVD technology |
| nano | технология химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology |
| nano | технология химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology |
| nano | установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| nano | установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis facility |
| nano | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| nano | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| nano | формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| nano | формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
