| Subject | Russian | English |
| el. | амфотерное легирование | amphoteric doping |
| nano | асимметричное легирование | asymmetric doping |
| tech. | взаимное легирование | cross-doping |
| nano | влияние примесного легирования | impurity-doping effect |
| met. | газовое легирование | gas alloying |
| nano | гетерогенное легирование | heterogeneous doping |
| el. | геттерирование методом диффузионного легирования | diffusion gettering |
| microel. | геттерирование методом ионного легирования | ion implantation gettering |
| tech. | геттерирование методом ионного легирования | implantation gettering |
| tech. | геттерирование с диффузионным легированием | diffusion gettering |
| automat. | глубина легирования | alloying depth |
| microel. | глубина легирования | doping depth |
| automat. | глубокое легирование | deep alloying |
| nano | гомогенное легирование | homogeneous doping |
| media. | градиентное легирование | gradual doping (с градиентом концентрации примеси) |
| microel. | двойное легирование | double doping |
| microel. | двукратное легирование | double doping |
| semicond. | дельта-легирование | delta-doping |
| media. | дельта-легирование | delta-doping (S-doping, локализация примеси в слое атомарной толщины) |
| el. | диод из материала со сверхкритическим уровнем легирования | overcritically doped diode |
| media. | диод co сверхкритическим уровнем легирования | over critically doped diode |
| tech. | диффузионное легирование | diffusion alloying |
| el. | диффузионное легирование | drive-in diffusion |
| Makarov. | диффузионное легирование | diffusion doping |
| met. | доплата за легирование | alloy surcharge (Надбавка к стоимости металла, связанная с повышением цены на легирующие элементы. shergilov) |
| nano | замещающее легирование | substitutional doping |
| Makarov. | золото, упрочнённое в результате легирования медью | copper-hardened gold |
| met. | золото, упрочнённое путём легирования медью | copper-hardened gold |
| comp. | зона легирования | doping range |
| automat. | зона легирования с переплавом поверхностных слоёв | alloyed melt zone |
| microel. | избирательное легирование | preferential doping |
| tech. | избирательное легирование | selective doping |
| tech. | избыточное легирование | overalloying |
| tech. | избыточное легирование | overdoping |
| tech. | избыточное легирование | over-alloying |
| media. | изотопный переход с низкой/высокой степенью легирования областей | low/high junction |
| microel. | инжекционное легирование | injection doping |
| microel. | ионное легирование | ion-implantation processing |
| microel. | ионное легирование | ion-implantation doping |
| sol.pow. | ионное легирование | ion-assisted doping |
| microel. | ионное легирование | ion-implant doping |
| microel. | ионное легирование | all-ion-implant process |
| tech. | ионное легирование | implantation process (примесей) |
| tech. | ионное легирование | ion implantation process |
| tech. | ионное легирование | implantation |
| tech. | ионное легирование | implant |
| tech. | ионное легирование | ion-implantation process |
| tech. | ионное легирование | ion-beam implantation |
| tech. | ионное легирование | ion implantation |
| tech. | ионное легирование | ion implantation doping |
| tech. | ионное легирование | implant doping |
| tech. | ионное легирование | implantation doping |
| mil., avia. | ионное легирование | ion beam implantation |
| microel. | ионное легирование кармана | well implant |
| el. | ионно-имплантационное легирование | ion-implantation doping |
| sol.pow. | ионно-лучевое легирование | ion beam doping |
| automat. | исходное состояние поверхности перед легированием | dopant precursor |
| media. | карман с обратным профилем легирования | retrograde well |
| el. | компенсация легированием | doping compensation |
| house. | компенсация легирования | doping compensation |
| microel. | компенсирующее легирование | counter dopant |
| microel. | компенсирующее легирование | counterdoping |
| tech. | компенсирующее легирование | counterdoping (примесью противоположного типа проводимости) |
| tech. | компенсирующее легирование | counter doping (примесью противоположного типа проводимости) |
| microel. | контактное легирование | proximity doping |
| el. | контролируемое легирование | controlled doping |
| Makarov. | косвенное легирование | indirect doping |
| microel. | кремний со скомпенсированным легированием | counterdoped silicon |
| automat. | лазерно-вакуумное легирование | laser-vacuum surface alloying |
| Makarov. | лазерно-вакуумное легирование | laser-vacuum alloying |
| automat. | лазерное поверхностное легирование | laser alloying |
| transp. | лазерное легирование | laser alloying |
| microel. | лазерное легирование | laser doping |
| weld. | лазерное легирование | laser alloying (способ оплавления поверхности лазером с одновременной добавкой легирующих элементов Johnny Bravo) |
| automat. | лазерное легирование с воспроизводимым результатом | reproducible laser alloying |
| transp. | лазерное поверхностное легирование | laser alloying |
| automat. | лазерное порошковое легирование | laser powder surfacing |
| Makarov. | лазерное твердофазное легирование | laser solid-phase doping |
| el. | легирование акцепторной примесью | p-type doping |
| el. | легирование акцепторной примесью | p-dopant incorporation |
| tech. | легирование атомами примеси | doping of impurity atoms |
| sol.pow. | легирование боковых стенок канавок | trench sidewall doping |
| el. | легирование бором | boron doping |
| automat. | легирование бором с использованием лазерного нагрева | laser borinizing |
| tech. | легирование в вакуумной камере | chamber alloying |
| automat. | легирование в газовой среде | gaseous alloying (напр., при лазерном нагреве) |
| transp. | легирование в газовой среде | gaseous alloying |
| Makarov. | легирование в газовой среде | gaseous alloying (напр., при лазерном нагреве) |
| nano | легирование в газовой фазе | gas-phase doping |
| nano | легирование в газовой фазе | gas doping |
| microel. | легирование в одном атомном слое | atomic layer dopant |
| tech. | легирование в печи | furnace alloying |
| el. | легирование донорной примесью | n-type doping |
| comp. | легирование донорной примесью | donor addition |
| el. | легирование за счёт нейтронной ядерной реакции | neutron-transmutation doping |
| tech. | легирование затвора | gate doping |
| Makarov. | легирование золотом | gold doping |
| el. | легирование из газовой фазы | gas-phase doping |
| Makarov. | легирование из газовой фазы | gas doping |
| microel. | легирование исходной примесью | predoping |
| el. | легирование компенсирующей примесью | counterdoping |
| tech. | легирование кремния | doping of silicon |
| met. | легирование металлов | alloying of metals (Лариса Титаева) |
| el. | легирование методом зонного выравнивания | zone-leveling doping |
| media. | легирование методом зонного выравнивания | zone-leveling doping (распределения примеси) |
| tech. | легирование методом ионного внедрения | ion-implanted doping |
| el. | легирование методом ионной имплантации | ion-implantation doping |
| microel. | легирование методом миграции капель расплава с примесью | droplet-migration doping |
| tech. | легирование мышьяком | arsenic doping |
| automat. | легирование на небольшой площадке | regional alloying |
| automat. | легирование на небольшой площадке | point alloying |
| nano | легирование нанокристаллов | nanocrystals doping |
| nano | легирование неорганических НТ | inorganic nanotubes doping |
| nano | легирование НТ | nanotubes doping |
| nano | легирование НТ при выращивании методом химического осаждения из газовой фазы | doping of nanotubes during CVD growth |
| nano | легирование НТ при выращивании методом химического осаждения из паровой фазы | doping of nanotubes during CVD growth |
| automat. | легирование полупроводникового слоя от подложки | backdoping (примесью, содержащейся в подложке) |
| microel. | легирование под защитным слоем оксида | field oxide doping |
| nano | легирование подложки | wafer doping |
| nano | легирование подложки | template doping |
| nano | легирование подложки | underlayer doping |
| tech. | легирование подложки | substrate doping |
| phys. | легирование полупроводника | doping |
| Makarov. | легирование полупроводников | semiconductor doping |
| nano | легирование полупроводниковых нанокристаллов | semiconductor nanocrystals doping |
| nano | легирование полупроводниковых нанопроводов | semiconductor nanowires doping |
| el. | легирование после окисления | post-oxidation doping |
| microel. | легирование после оксидирования | post-oxidation doping |
| el. | легирование примесью | impurity doping |
| microel. | легирование примесью из раствора | solute doping |
| Makarov. | легирование примесью, уменьшающей время жизни неосновных носителей заряда | lifetime-killer doping |
| nano | легирование примесью, уменьшающей время жизни носителей | lifetime killing doping |
| microel. | легирование примесью, уменьшающей время жизни носителей заряда | lifetime-killer doping |
| el. | легирование примесями | lifetime-killer doping |
| el. | легирование примесями, уменьшающими время жизни неосновных носителей заряда | lifetime-killer doping |
| tech. | легирование примесями, уменьшающими время жизни неосновных носителей заряда | lefetime killer doping |
| Makarov. | легирование примесями, уменьшающими время жизни неосновных носителей заряда | lifetime killer doping |
| silic. | легирование пропиткой | stuffing (напр., пористых стёкол) |
| Makarov. | легирование с использованием радиоактивных превращений под действием нейтронов | neutron transmutation doping |
| microel. | легирование с образованием дефектов внедрения | interstitial doping |
| microel. | легирование с образованием дефектов замещения | substitutional doping |
| el. | легирование с целью уменьшения времени релаксации | relaxation-time doping |
| Makarov. | легирование с целью уменьшения времени релаксации | relaxation-time foreign doping |
| media. | легирование слоя атомарной толщины | atomic-layer doping |
| nano | легирование слоёв | layers doping |
| mining. | легирование стальных сплавов | alloy building |
| nano | легирование УНТ | CNTs doping |
| nano | легирование УНТ | carbon nanotubes doping |
| Makarov. | легирование фосфида индия | doping of indium phosphide |
| polygr. | легирование фотоприёмника | photoreceptor doping |
| comp. | легирование эмиттера | emitter doping |
| microel. | ливневое ионное легирование | shower doping |
| microel. | ливневое ионное легирование | ion-shower doping |
| tech. | логическая интегральная схема, изготовленная методом легирования золотом | gold-transistor logic |
| automat. | локальное легирование | regional alloying (напр., лазерным лучом) |
| microel. | локальное легирование | localized doping |
| automat. | локальное легирование | point alloying (напр., лазерным лучом) |
| Makarov. | локальное легирование | point alloying (напр., лазерным лучом) |
| nano | лёгкое легирование | soft doping |
| nano | лёгкое легирование | light doping |
| IT | маска для ионного легирования | implantation mask |
| tech. | маска для легирования | doping mask |
| tech. | маска для селективного легирования | selective mask |
| microel. | маскирующий материал для легирования | dopant masking material |
| el. | межэлектродное легирование | interelectrode doping |
| mil., avia. | меза-планарная технология в сочетании с ионным легированием | ion-implanted-planar-mesa (process) |
| automat. | местное легирование | point alloying (напр., лазерным лучом) |
| automat. | местное легирование | regional alloying (напр., лазерным лучом) |
| Makarov. | местное легирование | regional alloying (напр., лазерным лучом) |
| automat. | метод двойного легирования | double doping method (примесями двух различных типов) |
| el. | метод двойного легирования | double-doping technique |
| el. | метод двойного легирования | double-doping method |
| nano | метод двойного легирования | double-doping team |
| microel. | метод двойного легирования | double-doped technique |
| microbiol., Makarov. | метод двукратного легирования | double-doping technique |
| microel. | метод двукратного легирования | double-doping method |
| el. | метод двухкратного легирования | double-doping technique |
| el. | метод двухкратного легирования | double-doping method |
| comp. | метод диффузионного легирования | alloy diffusion technique |
| mil., avia. | метод диффузного легирования | alloy diffusion technique |
| semicond. | метод легирования | doping method |
| sol.pow. | метод легирования | doping technique |
| comp. | метод легирования | alloying technique |
| microel. | метод легирования донорной примесью | n-type doping technique |
| el. | метод легирования из газовой фазы | gas-doping technique |
| Makarov. | метод легирования из газовой фазы | gas-doping technique (пп) |
| el. | метод легирования из паровой фазы | gas-doping technique |
| nano | метод совместного легирования | co-doping team |
| foreig.aff. | механическое легирование | mechanical alloying |
| tech. | модулированное легирование | modulation doping |
| nano | модуляция уровня легирования | doping modulation |
| el. | МОП прибор, полученный методом ионного легирования | ion implanted MOS |
| tech. | морфология выделений при легировании | doping-precipitated morphology |
| polym. | нарушения порядка, вызванные легированием | doping-induced disorder (т.е. появление структурных дефектов, возникающих при легировании) |
| automat. | неглубокое легирование | shallow alloying |
| nucl.phys. | нейтронное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное легирование | NTD (MichaelBurov) |
| tech. | нейтронное радиационное легирование | neutron transmutation doping |
| nucl.phys. | нейтронное трансмутационное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное трансмутационное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное трансмутационное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное трансмутационное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронное трансмутационное легирование | NTD (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронно-трансмутационное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронно-трансмутационное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронно-трансмутационное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | нейтронно-трансмутационное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| microel. | нейтронно-трансмутационное легирование | neutron doping |
| nucl.phys. | нейтронно-трансмутационное легирование | NTD (MichaelBurov) |
| microel. | нейтронно-трансмутационное легирование | transmutation doping |
| nano | неоднородное легирование | heterogeneous doping |
| microel. | неоднородное легирование | modulation doping |
| tech. | непосредственное легирование | direct doping |
| met. | неправильное легирование металла | faulty alloying of metal |
| media. | непреднамеренное легирование | unintentional doping |
| automat. | неровность поверхности после легирования | coarseness of alloyed surface |
| microel. | неуправляемое легирование | erratic doping |
| automat. | область легирования | alloyed region (при локализованной обработке) |
| microel. | область легирования | doped region (Xute) |
| microel. | область со ступенчатым легированием | stepped-doping region |
| tech. | оборудование для легирования | doping equipment |
| sol.pow. | обратимое химическое легирование | reversible electrochemical doping |
| el. | обратное легирование | retrograde doping |
| automat. | однооперационный технологический процесс легирования | single step doping |
| automat. | однооперационный технологический процесс легирования | single pulse doping |
| automat. | однооперационный технологический процесс легирования | one-step doping |
| el. | однородное легирование | uniform doping |
| nano | однородное легирование | homogeneous doping |
| tech. | однородность легирования | doping uniformity (профиля) |
| tech. | однородность профиля легирования | doping uniformity |
| tech. | перекрёстное легирование | cross-doping |
| house. | переход между областями с разным уровнем легирования | high-low junction |
| comp. | переход, образованный легированием | doping junction |
| tech. | переход, полученный методом двойного легирования | double-doped junction |
| tech. | переход, полученный методом легирования | doped junction (в процессе роста кристалла) |
| Makarov. | переход, полученный методом легирования | doped junction (в процессе роста) |
| microel. | переход со сверхрезким профилем легирования | hyper-abrupt transition |
| microel. | переход со сверхрезким профилем легирования | hyper-abrupt doping transition |
| tech. | переход со ступенчатым профилем легирования | lo-hi junction (напр., переходы типа p-p^, n-n^) |
| tech. | переход со ступенчатым профилем легирования | low-high junction (напр., переходы типа p-p^, n-n^) |
| tech. | переход со ступенчатым профилем легирования | low--high junction |
| Makarov. | переход со ступенчатым профилем легирования | lo-hi junction (напр., переходы типа n – n+, p – p+) |
| Makarov. | переход со ступенчатым профилем легирования | low-high junction (напр., переходы типа n – n+, p – p+) |
| Makarov. | переход со ступенчатым профилем легирования | low-high junction (напр., переходы типа p-p+, n-n+) |
| tech. | переход со ступенчатым профилем легирования | high-low junction (напр., переходы типа n^-n, p^-p) |
| Makarov. | переход со ступенчатым профилем легирования | high-low junction (напр., переходы типа n+ – n, p+ – p) |
| Makarov. | переход со ступенчатым профилем легирования | hi-lo junction (напр., переходы типа n+ – n, p+ – p) |
| met. | период легирования | alloying time |
| el. | период рафинирования и легирования в цикле плавки | alloying and refining time |
| microel. | плазменное легирование | plasma doping |
| telecom. | подложка светодиода с легированием акцепторной примесью | N-doped GaAs substrate |
| telecom. | подложка светодиода с легированием донорной примесью | P-doped GaAs substrate |
| el. | полевой транзистор на гетероструктуре с селективным легированием | selectively doped heterojunction transistor |
| el. | полевой транзистор на гетероструктуре с селективным легированием | modulation-doped field-effect transistor |
| el. | полевой транзистор с модулированным легированием | modulation doped FET |
| nano | полевой транзистор с модулированным легированием | MODFET (modulated-doping field effect transistor kadzeno) |
| el. | полевой транзистор с модулированным легированием | MOD FET |
| nano | полевой транзистор с модулированным легированием | modulated-doping field effect transistor (MODFET kadzeno) |
| microel. | полевой транзистор с неоднородным легированием | modulation-doped FET |
| microel. | послойное легирование | sheet doping |
| el. | предварительное ионное легирование | pre-implantation |
| tech. | предварительное легирование | predoping |
| nano | примесное легирование | impurity-doping |
| Makarov. | примесное легирование | impurity doping |
| Makarov. | примесное легирование полупроводников | impurity semiconductor doping |
| automat. | производительность процесса легирования лучом | rate of beam alloying (напр., лазерным) |
| Makarov. | производительность процесса легирования лучом | rate of beam alloying (напр., лазерным) |
| sol.pow. | произвольный профиль легирования | arbitrary doping profile |
| house. | профиль легирования | dopant profile |
| nano | процесс легирования | doping process |
| tech. | процесс "холодного" легирования | cold-doping process |
| tech. | процесс "холодного" легирования | cold doping process |
| tech. | прямое легирование | direct doping |
| Makarov. | радиационное легирование | radiation doping |
| tech. | регулируемое легирование | controlled doping |
| tech. | регулируемое легирование | control doping |
| el. | ретроградное легирование | retrograde doping |
| gen. | с пониженным уровнем легирования | down-doped (Svetozar) |
| nano | с селективным легированием | modulation-doped |
| media. | сверхрешётка с пилообразным профилем легирования | sawtooth doping super lattice (пилообразная легированная сверхрешётка) |
| el. | селективное легирование | selective doping (легирование через маску) |
| tech. | селективное легирование | selective doping |
| tech. | сильное легирование | high doping |
| tech. | сильное легирование | heavy doping |
| nano | симметричное легирование | symmetric doping |
| microel. | слабое легирование | low-concentration doping |
| microel. | слабое легирование | low doping |
| tech. | слабое легирование | light doping |
| silic. | совместное легирование | joint doping |
| Makarov. | солнечный элемент с эмиттером, имеющим области сильного и слабого легирования | high-low emitter cell |
| tech. | способ легирования | doping technique |
| tech. | степень легирования | doping level |
| Makarov. | степень легирования | concentration level |
| el. | структура со сверхкритическим уровнем легирования | supercritically doped structure |
| el. | субкритическое легирование | subcritical doping |
| Makarov. | теплота легирования | heat of alloying |
| tech. | термодиффузионное поверхностное легирование | thermal-diffusion surface alloying (bonly) |
| comp. | техника легирования | doping technique |
| mil., avia. | технология изготовления логических интегральных схем методом легирования золотом | gold-transistor logic |
| Gruzovik, scient. | технология изготовления логических ИС методом легирования золотом | GTL (gold-transistor logic) |
| tech. | технология ионного легирования | ion implantation technique |
| microel. | технология ИС с использованием легирования золотом | gold-doped process |
| automat. | технология лазерного поверхностного легирования | laser surface modification technology |
| nucl.phys. | технология нейтронного легирования | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного легирования | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного легирования | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного легирования | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного легирования | NTD (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного трансмутационного легирования | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного трансмутационного легирования | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного трансмутационного легирования | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного трансмутационного легирования | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология нейтронного трансмутационного легирования | NTD (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного легирования | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного легирования | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного легирования | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного легирования | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного легирования | NTD (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного трансмутационного легирования | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного трансмутационного легирования | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного трансмутационного легирования | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного трансмутационного легирования | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | технология ядерного трансмутационного легирования | NTD (MichaelBurov) |
| gen. | транзистор, база которого выполнена методом ионного легирования | ion-implanted base transistor |
| tech. | транзистор двойного легирования | double-doped transistor |
| automat. | транзистор с двойным легированием | double doped transistor |
| media. | трансмутационное нейтронное легирование | transmutation doping |
| el. | трансмутационное легирование | neutron doping |
| Makarov. | трансмутационное легирование | transmutation doping |
| el. | уменьшение уровня легирования бором | boron depletion |
| nano | управляемое легирование | directed doping |
| microel. | управляемое легирование | control dopant |
| el. | управляемое легирование | controlled doping |
| Makarov. | управляемое легирование | control doping |
| tech. | управляемое легирование, регулируемое легирование | controlled doping |
| tech. | управляемое легирование, регулируемое легирование | control doping |
| microel. | уровень легирования | impurity level |
| el. | уровень легирования | concentration level |
| tech. | уровень легирования | doping level |
| el. | установка для легирования | doper |
| microel. | установка ионного легирования | ion implanter |
| microel. | установка ионного легирования | ion-beam implanter |
| tech. | установка ионного легирования | ion implantation |
| tech. | установка ионного легирования | ion-beam implantation |
| tech. | установка ионного легирования | implanter |
| tech. | установка легирования | doper |
| microel. | фоновое легирование | background dopant |
| tech. | фоновое легирование | background doping |
| el. | фотолюминофор, используемый для легирования материала фотокатода | wavelength shifter |
| el. | фотолюминофор, используемый для легирования материала фотокатода с целью уменьшения длинноволновой границы | wavelength shifter |
| microel. | фотохимическое легирование | photochemical doping |
| el. | химическое легирование | chemical doping |
| sol.pow. | холодное легирование | cold doping |
| met. | экономное легирование | lean alloying (Boeing) |
| tech. | электроискрового легирования | electrospark doping (Друля) |
| polym. | электроискровое легирование | electro-spark alloying (Domas) |
| met. | электроискровое легирование | electrical discharge alloying (Farrukh2012) |
| media. | электроискровое легирование | spark doping |
| nano | электронное легирование | electronic doping |
| nano | электрохимическое легирование | electrochemical doping |
| media. | эпитаксия с одновременным диффузионным легированием из сплава | alloy-diffused epitaxial process |
| sol.pow. | эффект сильного легирования | heavy doping effect |
| nucl.phys. | ядерное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное легирование | NTD (MichaelBurov) |
| Makarov. | ядерное легирование | nuclear doping |
| nucl.phys. | ядерное трансмутационное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное трансмутационное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное трансмутационное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное трансмутационное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерное трансмутационное легирование | NTD (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерно-трансмутационное легирование | neutron transmutation doping technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерно-трансмутационное легирование | neutron transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерно-трансмутационное легирование | nuclear transmutation doping (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерно-трансмутационное легирование | NTD technology (MichaelBurov) |
| nucl.phys. | ядерно-трансмутационное легирование | NTD (MichaelBurov) |
