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Terms
for subject
Microelectronics
containing
registration
|
all forms
|
exact matches only
English
German
array
registration
Überdeckungsgenauigkeit der Einzelfelder
(im Chipverband)
chip
registration
mark
Chipüberdeckungsmarke
coarse
registration
Grobüberdeckung
field-to-field
registration
with benchmarks
feldweise Uberdeckung mit Feinjustiermarken
fine
registration
Feinüberdeckung
front-to-back pattern
registration
Strukturüberdeckung zwischen Vorder- und Rückseite
front-to-back
registration
Überdeckung der Vorder- und Rückseitenstrukturen
imprecise level-to-level
registration
ungenaue Überdeckung zwischen den Ebenen
interlevel
registration
Überdeckungsgenauigkeit von Ebene zu Ebene
layer-to-layer
registration
Überdeckung zwischen den Schichten
level to-level
registration
tolerance of 0.1 μm
Überdeckungstoleranz von 0,1 μm zwischen den Ebenen
level-to-level
registration
Überdeckung zwischen den Ebenen
level-to-level
registration
accuracy
Überdekkungsgenauigkeit zwischen den Ebenen
level-to-level
registration
of masks
Überdekkung der Masken von Ebene zu Ebene
mask
registration
Maskenüberdeckung
mask-layer overlay
registration
Überdekkungsjustierung der Maskenebenen
mask-to-mask
registration
Überdeckungsgenauigkeit von Maske zu Maske
mask-to-wafer
registration
Justierung von Maske zu Wafer
mask-to-wafer
registration
Maske-Wafer-Überdeckung
mask-wafer
registration
Maske-Wafer-Überdeckung
overlay
registration
Überdeckungsjustierung
pad
registration
Kontaktinseljustierung
pattern
registration
error
Strukturüberdeckungsfehler
precision
registration
and overlay capability
Feinjustier- und Überdeckungsmöglichkeit
provide a more reliable signal for
registration
ein zuverlässigeres Signal für die Justierung liefern
reference
registration
mark
Bezugsjustiermarke
registration
accuracy
Überdeckungsgenauigkeit
registration
beam
Justierstrahl
registration
capability
Überdeckbarkeit
registration
check
Überdeckungskontrolle
registration
error between masks
Überdeckungsfehler zwischen Masken
registration
from level to level
Überdeckung von Ebene zu Ebene
registration
mark of heavy metal
Schwermetalljustiermarke
registration
mark of heavy metal
Justiermarke aus Schwermetall
registration
mark of heavy metal
Justiermarke von Schwermetall
registration
of the mask images from level to level
Überdeckung fder Maskenbilder zwischen den Ebenen
registration
of the separate masking steps
Oberdekkung fder getrennten Maskierungsschritte
registration
precision
Überdeckungspräzision
(des Abbildungssystems)
registration
requirement of the mask design
Überdeckungsanforderung des Maskenentwurfs
registration
test pattern
Überdeckungsteststruktur
registration
time
Justierzeit
registration
tolerance
Überdeckungstoleranz
registration
with the underlying pattern
Überdekkung mit der darunterliegenden Struktur
residual
registration
error
Restüberdeckungsfehler
scan the electron beam over
registration
marks
das Elektronenstrahlbündel rasterförmig über die Feinjustiermarken führen
subsequent
registration
nachfolgende Überdeckung
tight
registration
tolerance over a large mask area
enge Überdeckungstoleranz in einer großen Maskenfläche
tighter fitting
registration
Überdeckung mit engeren Toleranzen
tolerable
registration
error
zulässiger Überdeckungsfehler
top-to-bottom
registration
Überdeckung zwischen oberer und unterer Maske
(doppelseitige Fotolithografie)
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