| English | Russian |
| air-oxide | оксидно-воздушный |
| air-oxide isolation | оксидно-воздушная изоляция |
| AL oxide | оксид алюминия |
| aluminium-oxide ceramics | алюмооксидная керамика |
| antimony oxide | триоксид сурьмы |
| arsenic oxide | триоксид мышьяка |
| arsenous oxide | триоксид мышьяка |
| boron oxide | оксид бора |
| boron-implanted oxide | диоксид кремния с имплантированными ионами бора |
| buried-oxide MOS transistor | МОП-транзистор с углублённым оксидным слоем |
| capping oxide | оксидное покрытие |
| chemical vapor deposited oxide | оксид, сформированный химическим осаждением из паровой фазы |
| crossover oxide | оксид на пересечении соединений |
| deep oxide isolation | глубокая изоляция оксидом |
| deep oxide isolation process | глубокая изоляция оксидом |
| doped oxide | легированный оксид |
| doped oxide | легированный диоксид кремния |
| electron-beam evaporated oxide | оксид, сформированный методом электронно-лучевого напыления |
| emitter reach-through oxide | оксид из эмиттерной сквозной области |
| evaporated oxide | напылённый оксид |
| field oxide doping | легирование под защитным слоем оксида |
| field-oxide encroachment | подтравливание под защитным оксидом |
| field-oxide implantation | ионная имплантация через слой оксида |
| field oxide layer | защитный оксидный слой |
| field-oxide mask | оксидный маскирующий слой |
| fluorine-implanted bismuth oxide superconductor | сверхпроводник на основе оксидов висмута с имплантированным |
| gate oxide | подзатворный окисел (key2russia) |
| gate oxide | подзатворный диоксид кремния |
| gate-oxide integrity | целостность оксидного слоя затвора |
| gate-oxide thickness | толщина оксидного слоя затвора |
| implanted oxide | ионно-имплантированный оксид |
| implanted oxide | ионно-имплантированный диоксид кремния |
| inset oxide layer | углублённый оксидный слой |
| insulation oxide | изолирующий оксид |
| insulation oxide | изолирующий диоксид кремния |
| ion-implanted oxide isolation | оксидная изоляция с ионно-имплантированными областями |
| isolation oxide | изолирующий окисел (key2russia) |
| IZO indium zinc oxide | оксид индия-цинка (tumanova_irina) |
| local-oxide isolation | изоляция локальным оксидом |
| low-temperature oxide | оксид, сформированный при низкотемпературном оксидировании |
| mask oxide | маскирующий оксид |
| mask oxide | маскирующий диоксид кремния |
| masking oxide | маскирующий оксид |
| masking oxide | маскирующий диоксид кремния |
| metal-oxide resistor | металлооксидный резистор |
| metal-oxide-semiconductor growth | выращивание МОП-структуры |
| metal-oxide-semiconductor micro | МОП-микропроцессор |
| metal-oxide-semiconductor transistor | транзистор со структурой типа металл-оксид-полупроводник |
| metal-oxide-semiconductor transistor | МОП-транзистор |
| metal-nitride-oxide-semiconductor transistor | транзистор со структурой типа металл-нитрид-оксид- полупроводник |
| metal-nitride-oxide-semiconductor transistor | МНОП-транзистор |
| MOS oxide | тонкий слой оксида в МОП-структуре |
| multilevel oxide | оксид в многоуровневых соединениях |
| native oxide mask | маска из собственного оксида |
| native oxide technique | метод исходного оксида |
| nitride-oxide reactor | реактор для формирования нитридных и оксидных плёнок |
| nitrided oxide | азотированный оксид |
| oxide breakdown | пробой оксидного слоя |
| oxide cap | оксидное покрытие |
| oxide crust | оксидное покрытие |
| oxide cut | канавка в оксидном слое |
| oxide encroachment | подтравливание под оксидной маской |
| oxide etch | травитель для оксида |
| oxide etch | травление оксида |
| oxide-film isolation process | изоляция элементов ИС оксидной плёнкой |
| oxide formation | формирование оксида |
| oxide formation | образование оксида |
| oxide-free area | участок поверхности без оксидного слоя |
| oxide-inhibiting layer | слой препятствующий оксидированию |
| oxide isolated | с оксидной изоляцией |
| oxide-isolated CMOS | КМОП-структура с оксидной изоляцией |
| oxide-isolated integrated circuit | ИС с оксидной изоляцией |
| oxide isolated island | островок с изоляцией оксидом |
| oxide-isolated monolithic technology | технология полупроводниковых ИС с оксидной изоляцией |
| oxide-isolated structure | структура с оксидной изоляцией |
| oxide isolation process | изоляция оксидом |
| oxide isolation process | оксидная изоляция |
| oxide isolation trench | изолирующая канавка, заполненная оксидом кремния |
| oxide isolator | оксидный изоляционный материал |
| oxide masking | оксидное маскирование |
| oxide masking technique | метод оксидного маскирования |
| oxide overetching | перетравление оксидного слоя |
| oxide pattern | рисунок оксидного слоя |
| oxide pattern | оксидная структура |
| oxide photo masking | оксидное фотомаскирование (ssn) |
| oxide photo-masking | оксидное фотомаскирование (ssn) |
| oxide photomasking | оксидное фотомаскирование (ssn) |
| oxide plasma | плазма, образующая оксид |
| oxide portion | оксидный участок |
| oxide step | ступенька в оксидном слое |
| oxide surface | окислённая поверхность |
| oxide-walled base | базовая область ограниченная с боковых сторон слоем оксида |
| oxide window | окно с слое оксида |
| phosphorus doped oxide | диоксид кремния, легированный фосфором |
| planar oxide | слой оксида на поверхности планарного полупроводникового прибора |
| planar oxide | планарный оксид |
| plasma oxide | плазменный окисел (key2russia) |
| poly oxide | оксид поликристаллического кремни |
| poly oxide | оксид поликристаллического кремния |
| poly-oxide process | изоляция элементов ИС поликристаллическим кремнием и оксидом кремния |
| polysilicon-on-oxide region | область поликристаллического кремния на оксидном слое |
| rare-earth oxide | оксид редкоземельного элемента |
| recessed oxide | оксид, заполняющий канавки |
| recessed oxide region | углублённая оксидная область |
| refractory oxide | тугоплавкий оксид |
| sacrificial oxide process | формирование промежуточного оксидного слоя |
| sacrificial oxide process | промежуточное оксидирование |
| screen oxide | маскирующий оксид |
| screening oxide | маскирующий оксид |
| selective field-oxide approach | метод избирательного формирования защитного слоя оксида |
| semiconductor oxide | оксид полупроводника |
| semiconductor oxide | полупроводниковый оксид |
| semirecessed oxide | оксид, заполняющий мелкие канавки |
| semi-recessed oxide | полузаглублённый окисел (key2russia) |
| semirecessed oxide isolation | изоляция мелкими канавками с оксидом |
| shallow oxide | оксид, заполняющий мелкие канавки |
| silicon-over oxide-semiconductor structure | структура типа кремний на оксидном диэлектрике |
| silicon-over oxide-semiconductor structure | структура типа кремний на оксиде |
| staggered-oxide CCD | ПЗС со ступенчатым профилем оксида |
| stepped oxide | ступенчатый слой оксида |
| stress-relief oxide | оксид, уменьшающий механическое напряжение |
| sunken oxide pattern | углублённая оксидная структура |
| thermal oxide | термоокисел (key2russia) |
| thermal oxide growth | термическое выращивание оксида |
| thermal-oxide layer | оксидный слой сформированный термическим оксидированием |
| thermally grown oxide region | термически выращенный оксидный участок |
| thick oxide | толстый слой оксида |
| thick oxide | толстый оксид |
| thin oxide | тонкий слой оксида |
| thin oxide | тонкий оксид |
| tin oxide | оксид олова |
