| English | Russian |
| accelerated technology growth | ускоренное развитие техники |
| ALD-technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоевого осаждения (напр. нанопленки) |
| ALD-technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения (напр. нанопленки) |
| ALD-technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| ALD-technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| ALD-technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| ALD-technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| ALD technology-produced nanofilm | наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| ALD technology-produced nanofilm | нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| atomic layer deposition technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоевого осаждения (напр. нанопленки) |
| atomic layer deposition technology-assisted formation | формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения (напр. нанопленки) |
| atomic layer deposition technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения |
| atomic layer deposition technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения |
| atomic layer deposition technology-produced nanofilm | наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| atomic layer deposition technology-produced nanofilm | нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения |
| bottom-up technology-based nanoelectromechanical system | НЭМС на основе технологии восходящего производства |
| bottom-up technology-based nanoelectromechanical system | НЭМС, созданная по технологии "снизу-вверх" (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| bottom-up technology-based nanomaterial | наноматериал, полученный по технологии "снизу-вверх" (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| bottom-up technology-based topology | топология на основе технологии восходящего производства |
| bottom-up technology-based topology | топология, обеспечиваемая технологией "снизу-вверх" (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology-cleaned material | материал, очищенный газофазным методом |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| chemical vapor deposition technology cleaning | очистка газофазным методом |
| CNT technology-based electronics | электроника на основе технологии УНТ |
| CNT technology-used complementary locomotion | комплементарные логические схемы на технологии УНТ |
| current-technology microfabrication | современная микроиндустрия |
| CVD-technology-assisted formation | формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| CVD-technology-assisted formation | формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| CVD-technology-assisted formation | формирование по технологии газофазного химического осаждения |
| CVD-technology-assisted formation | формирование по ГФХО-технологии |
| CVD-technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| CVD-technology cleaning | очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| CVD-technology cleaning | очистка газофазным методом |
| CVD technology-realised autoemission medium | автоэмиссионная среда, реализуемая по методу газофазного осаждения |
| CVD-technology-synthesized nanotubes | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы |
| CVD-technology-synthesized nanotubes | НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы |
| CVD-VLS-technology-assisted formation | формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" |
| CVD-VLS-technology-assisted formation | формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" |
| enabling technology program | программа разработки необходимой техники |
| energy-environmental technology applications center | центр применения энерго- и экотехнологий |
| functional technology validation | функциональная техническая оценка |
| future technology growth | перспективное развитие техники |
| group technology-based cell | ГАУ на базе групповой технологии |
| group technology cell | ГАУ на базе групповой технологии |
| high-technology center | центр высоких технологий |
| high-technology industry | высокоразвитая промышленность |
| high-technology industry | промышленность с высоким уровнем развития техники |
| high technology level | высокий уровень развития техники |
| high technology level | высокий технологический уровень |
| high-technology material | высокотехнологичный материал |
| high vacuum technology cluster | высоковакуумный технологический кластер |
| hybrid brain-machine technology-based biomimetic robot | биомиметический робот с гибридной технологией интерфейса "мозг-машина" |
| hybrid brain-machine technology-based sensor | сенсор с гибридной технологией интерфейса "мозг-машина" |
| impact of technology growth | влияние развития техники |
| integrated electronics technology program | программа создания электронной техники на ИС |
| integrated technology experiment | эксперимент по отработке комбинированной техники |
| integrated technology experiment | комплексный технический эксперимент |
| ion plasma technology-produced film | плёнка, полученная ионно-плазменной технологией |
| ion-plasma technology-produced film coating | плёночное покрытие по ионно-плазменной технологии |
| LPMOCVD-technology-formed | изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении |
| LPMOCVD-technology-formed semiconductor | полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении |
| MBE-technology-assisted formation | формирование по МПЭ-технологии |
| MBE-technology-assisted formation | формирование по технологии молекулярно-лучевой эпитаксии |
| MBE-technology-assisted formation | формирование по технологии молекулярно-пучковой эпитаксии |
| MBE-technology-assisted formation | формирование по МЛЭ-технология |
| MBE-technology-based growing | выращивание МПЭ-методом (напр., гетероструктур) |
| MBE-technology-based growing | выращивание методом молекулярно-пучковой эпитаксии |
| MBE-technology-based growing | выращивание МЛЭ-методом (напр., гетероструктур) |
| MBE-technology-based growing | выращивание методом молекулярно-лучевой эпитаксии |
| MBE-technology-based heterostructure | гетероструктура, сформированная методом молекулярно-пучковой эпитаксии |
| MBE-technology-based heterostructure | гетероструктура, сформированная методом молекулярно-лучевой эпитаксии |
| MCVD-technology-assisted formation | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы |
| MCVD-technology-assisted formation | формирование по технологии модифицированного газофазного химического осаждения |
| MCVD-technology-assisted formation | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы |
| MCVD-technology-assisted formation | формирование по МГ ФХО-технологии |
| MCVD-VLS-technology-assisted formation | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" |
| MCVD-VLS-technology-assisted formation | формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" |
| microfabrication technology-based sensor | сенсор на технологиях микроиндустрии |
| micromachining technology-based sensor | сенсор, изготовленный по технологии микрообработки |
| minimum-schedule technology program | программа создания техники в минимальные сроки |
| MOCVD-technology-formed | изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений |
| MOCVD-technology-formed semiconductor | полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов |
| MOCVD-technology-formed semiconductor | полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов |
| molecular beam epitaxy technology-based growing | выращивание МЛЭ-методом (напр., гетероструктур) |
| molecular beam epitaxy technology-based growing | выращивание МПЭ-методом (напр., гетероструктур) |
| molecular beam epitaxy technology-based growing | выращивание методом молекулярно-пучковой эпитаксии |
| molecular beam epitaxy technology-based growing | выращивание методом молекулярно-лучевой эпитаксии |
| molecular layering technology-assisted formation | формирование по технологии молекулярного наслаивания (напр., нанопленки) |
| molecular layering technology-fabricated film | плёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания |
| molecular layering technology-formed monolayer | монослой, образованный по технологии молекулярного наслаивания |
| molecular layering technology-formed multilayer | мультислой, образованный по технологии молекулярного наслаивания |
| molecular layering technology produced nanofilm | наноплёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания |
| molecular layering technology produced nanofilm | нанопленка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания |
| nanoscale technology expert | специалист по нанотехнологиям (Alex_Odeychuk) |
| nanoscience and technology strategic technology team | группа разработки стратегических технологий в области нанонауки и техники |
| next-generation technology microfabrication | микроиндустрия следующего поколения |
| normal technology growth | нормальное развитие техники |
| nuclear technology-based optical fiber fabrication | производство оптического волокна с применением ядерной технологии |
| PECVD technology-realised autoemission medium | автоэмиссионная среда, реализуемая по методу плазмостимулированного газофазного выращивания |
| planar technology-produced electrolyte | твёрдый электролит, произведённый по планарной технологии |
| plasma-chemical technology-based nanopowder | нанопорошок, полученный плазмохимической технологией |
| silicon technology-based solar module | солнечный модуль на основе кремниевых технологий |
| slow technology growth | медленное развитие техники |
| technology applications center | центр применения технологий |
| technology-based standard | технологически обоснованный стандарт |
| technology compatibility | технологическая совместимость |
| technology demonstration accelerator | ускоритель для отработки перспективной техники |
| technology-driven | развивающийся под воздействием НТП |
| technology-exploration works | прикладные поисковые исследовательские работы |
| technology-exploration works | исследования по перспективной технике |
| technology infusion | технологическое внедрение |
| technology infusion | внедрение технологии |
| technology-intensive | технологически ёмкий |
| technology-intensive | требующий крупных затрат на создание технологий |
| technology-intensive | наукоёмкий (Alex_Odeychuk) |
| technology-intensive | техникоёмкий |
| technology investment | затраты на НИОКР |
| technology level | уровень развития техники |
| technology level | технологический уровень |
| technology-oriented | ориентированный на решение технических задач |
| technology-oriented | ориентированный на решение технологических задач |
| technology-oriented | ориентированный на НТП |
| technology requirements | технологические требования |
| technology-sharing co-production | совместное производство на базе обмена технологиями |
| technology transfer center | центр трансфера технологий |
| technology transfer effort | процесс передачи технических достижений |
| technology transition | передача технологий |
| technology transition paths | пути передачи технологии |
| thin-film technology-based solar module | солнечный модуль на основе технологии тонких плёнок |
| top-bottom technology-based microelectromechanical system | МЭМС на основе технологии нисходящего производства |
| top-bottom technology-based microelectromechanical system | МЭМС, созданная по технологии "сверху-вниз" (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| top-bottom technology-based nanomaterial | наноматериал, полученный по технологии "сверху-вниз" (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| top-down technology-based microelectromechanical system | МЭМС на основе технологии нисходящего производства |
| top-down technology-based microelectromechanical system | МЭМС, созданная по технологии "сверху-вниз" (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| top-down technology-based nanomaterial | наноматериал, полученный по технологии "сверху-вниз" (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| UHV technology cluster | сверхвысоковакуумный технологический кластер |
| ultrahigh vacuum technology cluster | сверхвысоковакуумный технологический кластер |
